Kansikuva

Film deposition by plasma techniques /

Tallennettuna:

Bibliografiset tiedot
Päätekijä:	Konuma, Mitsuharu, 1950- .
Aineistotyyppi:	Kirja
Kieli:	English
Julkaistu:	Berlin : Springer-Verlag, 1992.
Sarja:	Springer series on atoms + plasmas ; V.10.
Aiheet:	Thin films. Plasma-enhanced chemical vapor deposition.
Tagit:	Lisää tagi Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!

Samankaltaisia teoksia

Synthetic diamond : emerging CVD science and technology /
Julkaistu: (1994)

Plasma deposited thin films /
Julkaistu: (1986)

Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing /
Julkaistu: (1999)

Aerosol processing of materials /
Tekijä: Kodas, Toivo T. 1958- .
Julkaistu: (1999)

Pulsed laser deposition of thin films /
Julkaistu: (1994)

Thin-film deposition : principles and practice /
Tekijä: Smith, Donald L.
Julkaistu: (1995)

Chemical vapor deposition : principles and applications /
Julkaistu: (1993)

Photochemical vapor deposition /
Tekijä: Eden, J. G.
Julkaistu: (1992)

Electrophoretic Deposition and Characterization of Copper Selenide Thin Films
Tekijä: Abdul Razak, Mohd Fairul Sharin
Julkaistu: (2007)

Electrophoretic deposition and characterization of copper selenide thin films /
Tekijä: Mohd. Fairul Sharin Abdul Razak.

Synthesis of carbon nanomaterials using chemical vapor deposition technique for liquid adsorption
Tekijä: Abdul Halif, Norzilah
Julkaistu: (2011)

Synthesis of carbon nanomaterilas using chemical vapor deposition technique for liquid adsorption /
Tekijä: Norzilah Abdul Halif.

Chemical vapor deposition : thermal and plasma deposition of electronic materials /
Tekijä: Sivaram, S.
Julkaistu: (1995)

Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2009 : symposium held April 14-17, 2009, San Francisco, California, U.S.A. /
Julkaistu: (2009)

Preparation of thin films /
Tekijä: George, Joy, 1926- .
Julkaistu: (1992)

Magneto luminous chemical vapor deposition /
Tekijä: Yasuda, H.
Julkaistu: (2011)

Low-temperature synthesis of carbon nanotubes via floating catalyst-chemical vapor deposition method
Tekijä: Atiyah, Mahmood Rashid
Julkaistu: (2010)

Handbook of thin film technology /
Julkaistu: (1970)

Physics and applications of CVD diamond /
Julkaistu: (2008)

Principles of plasma discharges and materials processing /
Tekijä: Lieberman, M. A.
Julkaistu: (1994)

Metal based thin films for electronics /
Julkaistu: (2003)

Metal based thin films for electronics /
Julkaistu: (2006)

Thin films: interdiffusion and reactions /
Julkaistu: (1978)

Effects Of Molar Ratio Of Iron Catalyst On Synthesis Of Carbon Nanotubes Via Catalytic Chemical Vapor Deposition
Tekijä: Toussi, Setareh Monshi
Julkaistu: (2010)

Effects of temperature, deposition time and catalyst loading on the synthesis of carbon nanotubes in a vertical CVD reactor
Tekijä: Hanaei, Hengameh
Julkaistu: (2011)

Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing : film formation, adhesion, surface preparation and contamination control /
Tekijä: Mattox, D. M.
Julkaistu: (1998)

Magnetic thin films : properties, performance, and applications /
Julkaistu: (2011)

Synthesis of different layers of graphene on stainless steel using the CVD method
Tekijä: Ghaemi, Ferial, et al.
Julkaistu: (2016)

MOCVD growth and characterisation of Au-catalysed InP nanowires /
Tekijä: Suriati Paiman.

Deposition and growth : limits for microelectronics, Anaheim, CA, 1987 /
Julkaistu: (1988)

Effects of temperature, deposition time and catalyst loading on the synthesis of carbon nanotubes in a vertical CVD reactor /
Tekijä: Hanaei, Hengameh.

Effects of molar ratio of iron catalyst on synthesis of carbon nanotubes via catalytic chemical vapor deposition /
Tekijä: Toussi, Setareh Monshi.

Properties and characterization of amorphous carbon films /
Julkaistu: (1990)

Handbook of thin film devices /
Julkaistu: (2000)

Electrospray technology for thin-film devices deposition /
Tekijä: Jaworek, Anatol.
Julkaistu: (2010)

Synthesis of carbon nanotube-carbon nanosphere on the CF surface by CVD
Tekijä: Ghaemi, Ferial, et al.
Julkaistu: (2016)

Structure of nitrogen-doped graphene synthesized by combination of imidazole and melamine solid precursors
Tekijä: Vishwakarma, Riteshkumar, et al.
Julkaistu: (2016)

Methane gas adsorption capacity of carbon materials for adsorbed natural gas applications /
Tekijä: Alkhatib, Ma'an Fahmi R.

Vacuum deposition of thin films /
Tekijä: Holland, L.
Julkaistu: (1956)

High Tc superconducting thin films : processing, characterization, and applications, Boston, MA1989 /
Julkaistu: (1990)